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委托单位上海市科学技术委员会
承担单位上海图书馆(上海科学技术情报研究所)
EUV光刻是实现5nm及以下先进工艺的关键技术。本项目从产业、专利两个维度开展全 面分析。基于产业维度,深入研究美国EUV LLC联盟、国际市场现状及趋势、ASML及产业 链其他相关领先企业发展态势,解析产业技术研发及新技术领域如EUV光源及物镜、EUV光 刻胶和EUV掩膜版等发展趋势,剖析国内发展现状及态势和产业发展的主要瓶颈。基于专利 维度,聚焦技术发展趋势、重点技术分布、区域竞争格局、主要竞争机构等角度绘制专利地 图并展开分析,全景描绘国内外EUV光刻技术发展状况:全球EUV光刻技术发展已进入相对 成熟阶段,专利申请主要围绕已有技术主题的深入研发,新技术主题出现频率下降;美日德 技术领先,聚焦领域有所不同,韩国和中国台湾地区是EUV光刻技术主要应用所在地;目前 该领域存在大量失效(无效)专利,可以作为新市场进入者技术研发的借鉴和参考;中国 EUV光刻专利中有一半以上是由海外企业申请,国内技术仍处于起步阶段,国内EUV光刻专 利申请以高校和研究机构为主,省市中北京、上海处于领先地位